[16a-B1-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

11:30 AM - 11:45 AM JST(2:30 AM - 2:45 AM UTC)

[16a-B1-10] Drying Process in spin droplet cleaning

〇Kazumasa Nemoto¹, Takashi Yajima², kazushige Sato², Noriko Miura¹, Shiro Hara^1,2,3 (1.AIST, 2.Minimal Fab, 3.Hundred)

Keywords:

Minimal Fab

ミニマルファブでの洗浄装置では、ウェハステージにリングを装着する事によりウェハ表面と裏面の表面張力が連動してウェハ上下の液体が一体化保持され、両面洗浄が可能になる。N_２パージと高速回転で行う乾燥プロセスでは、薬液吐出ヘッドとウェハの距離を縮めることで、気流制御すると乾燥効率に効果があり、また、見かけで残留液滴が無くなった後もさらに乾燥時間を続けることで、ウォーターマークを大幅に抑える乾燥ができる。