[16a-B1-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

11:00 AM - 11:15 AM JST(2:00 AM - 2:15 AM UTC)

[16a-B1-8] Application study of hydrogen atmosphere surface treatment using minimal laser heating equipment to semiconductor CMOS devices

〇kazushige sato^1,2, Takashi Chiba^1,2, Masao Terada^1,2, Kengo Hamada^1,2, Shiro Hara^1,3 (1.MINIMAL, 2.SAKAGUCHI ELECTRIC HEATERS, 3.AIST)

Keywords:

Minimal Fab,Laser Heating

SOI-CMOSプロセスに使用している洗浄装置、ドライエッチング装置等、全てのプロセスでミニマル装置を使用しSiアイランドを形成した評価サンプルを作製し、水素アニール表面処理を施して、これによって起こるSiの自己拡散による形状変化を評価した。