[16a-C31-1~10] 6.4 Thin films and New materials

9:00 AM - 9:15 AM JST(12:00 AM - 12:15 AM UTC)

[16a-C31-1] Evaluation of the silicon-based low-permittivity dielectric films using universal machine learning potential

〇Akira Notake¹, Takuro Tsutsui¹, Tsuyoshi Moriya¹, Hitomi Oigawa¹, Lei Feng¹, Zeyuan Ni², Taiki Kato², Tomohisa Ogawa², Masaaki Matsukuma², Hisashi Higuchi², Atsushi Kubo², Ken Okoshi², Yohei Matsuyama², Hiroki Murakami², Yamato Tonegawa² (1.Tokyo Electron Ltd., 2.Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.)

Keywords:

dielectric films,machine learning potential,first-principles calculation

半導体のプロセスルールの微細化に伴い、従来のシリコン酸化膜より電気特性や機械的強度の優れた絶縁膜が求められている。近年はコンピュータの性能の向上と機械学習の普及に伴い、材料探索に計算シミュレーションやデータ科学を用いるマテリアルズインフォマティクスが一般化してきた。我々はユニバーサルな機械学習ポテンシャル(MLP)であるPFPと第一原理計算を用いて、目標とすべきシリコン系低誘電率絶縁膜を探索することにした。