[16p-B1-1~14] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

4:45 PM - 5:00 PM JST(7:45 AM - 8:00 AM UTC)

[16p-B1-14] Evaluation of anomaly detection using cluster analysis for semiconductor manufacturing equipment

〇Yuki Shiga¹, Toshiya Hirai^1,2, Manabu Kano² (1.KOKUSAI ELECTRIC, 2.Kyoto Univ.)

Keywords:

semiconductor manufacturing equipment,anomaly detection,cluster analysis

近年，半導体の高品質化が進んでおり，半導体製造装置の評価の高度化が求められている．これまで，クラスター分析を用い，最適クラスター数を指標とする異常検知モデルを構築し報告してきた．本報告ではその続報として最適クラスター数が，異常装置の原因である振動を含む信号の特徴を検出する能力を評価した．結果として最適クラスター数による検知能力が明らかとなったので報告する．