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[16p-B2-9]Enhancement of PL Emission from Si Quantum Dots Using Hot N+ Ion Implantation

〇Kazumasa Yonetsu1, Tomohisa Mizuno1 (1.Kanagawa Univ.)
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Keywords:

semiconductor,Quantum dot

本稿では Si-QD へのホット N+イオン注入 法による Si ダングリングボンの低減化によ る PL 強度の向上効果を検討したので報告す る.

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