[16p-P02-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[16p-P02-2] Effect of ion irradiation on sp²/sp³ bond structure in a-C:H film deposited using precursor consisting aromatic ring

〇(M1)Manato Eri¹, Shinjiro Ono¹, Takamasa Okumura¹, Naoto Yamashita¹, Kunihiro Kamataki¹, Haruki Kiyama¹, Naho Itagaki¹, Kazunori Koga¹, Masaharu Shiratani¹ (1.Kyushu Univ.)

Keywords:

diamond-like carbon,plasma enhanced chemical vapor deposition,cumene

水素化アモルファスカーボン(a-C:H)膜はエッチング用ハードマスクとして広く利用されており、プラズマ化学気相堆積(CVD)法によるa-C:H膜製膜において、膜表面への入射イオンエネルギーが膜中炭素の結合構成を決定する要因の一つである。本研究では、新規材料であるクメン(C₉H₁₂)を用いた、プラズマCVD法によるa-C:H膜の製膜において、製膜特性に対する入射イオンエネルギーの効果を、基板バイアス電圧制御により検討した。