[17a-C301-1~10] 6.4 Thin films and New materials

11:00 AM - 11:15 AM JST(2:00 AM - 2:15 AM UTC)

[17a-C301-9] Cu₃N Growth by Mist CVD on (001)SrTiO₃ Substrate

〇(M1)Chisato Tsukioka¹, Shogo Yoshida¹, Naoki Sugita¹, Hiroki Nagai¹, Takeyoshi Onuma¹, Tohru Honda¹, Tomohiro Yamaguchi¹ (1.Kogakuin Univ.)

Keywords:

Cu3N,Mist Chemical Vapor Deposition

本研究室では, Mist CVD法を用いてα-Al₂O₃基板上に単相Cu₃Nを得たものの, 成長面内での回転ドメイン形成を報告している. 本研究ではα-Al₂O₃に変わる基板としてSrTiO₃に注目し, SrTiO₃基板上へのCu₃Nの結晶成長と, その配向性を評価した. 実験結果より, SrTiO₃基板を用いることで, 結晶が基板面内で回転することなく単結晶膜として成長することを確認した.