[17p-D62-1~9] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

1:45 PM - 2:00 PM JST(4:45 AM - 5:00 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[17p-D62-2] EUV contrast curve measurement of the main chain scission type resists

〇(M1)Ryuta Shiga¹, Shinji Yamakawa¹, Tetsuo Harada¹ (1.Univ. of Hyogo)

Keywords:

EUV,photoresist,contrast curve

レジスト材料のEUV露光・現像に関与する化学現象は未だに解明されていない点があり、要求仕様の達成は困難なままである。種々のレジスト材料についてEUV感度曲線を系統的に評価し、EUVレジストの基礎的な溶解挙動を明らかにする必要がある。本研究では、NewSUBARU放射光施設のビームラインBL03にて主鎖切断型レジストのEUV感度測定を実施し、その感度特性に対する初期膜厚および分子量の影響について検討した。