[17p-D62-1~9] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

2:30 PM - 2:45 PM JST(5:30 AM - 5:45 AM UTC)

[17p-D62-5] Fundamental Study on Lithographic Characteristics of Organic-Inorganic Hybrid Resists for EUV Lithography

〇Hiroki Yamamoto¹, Yuko (Tsutsui) Ito², Kazumasa Okamoto², Takahiro Kozawa² (1.QST, 2.SANKEN, Osaka Univ.)

Keywords:

EUV resist,Organic inorganic hybrid resist,Etch durability

本講演では、有機無機ハイブリッドレジストを合成し、リソグラフィの性能評価を行った結果、Hfの金属コアおよびリガンドがメタクリル酸（MMA）からなる有機無機ハイブリッドレジストは高解像度で高感度であることがわかった。このように、Hfから成る有機無機ハイブリッドレジストは次世代レジスト材料として有望であることが明らかになった。