[17p-D62-1~9] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

14:30 〜 14:45

[17p-D62-5] EUVリソグラフィ用有機無機ハイブリッドレジストのリソグラフィ特性における基礎研究

〇山本 洋揮¹、伊藤(筒井) 裕子²、岡本 一将²、古澤 孝弘² (1.量研高崎、2.阪大産研)

キーワード：

EUVレジスト、有機無機ハイブリッドレジスト、エッチング耐性

本講演では、有機無機ハイブリッドレジストを合成し、リソグラフィの性能評価を行った結果、Hfの金属コアおよびリガンドがメタクリル酸（MMA）からなる有機無機ハイブリッドレジストは高解像度で高感度であることがわかった。このように、Hfから成る有機無機ハイブリッドレジストは次世代レジスト材料として有望であることが明らかになった。