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[18a-A24-3]Deposition of AgBa2Si3 films for thermoelectric applications and search for dopants by first-principles calculations

〇Kimimaru Kajihara1, Takamitsu Ishiyama1, Kaoru Toko1, Yoichiro Koda2, Masami Mesuda2, Shuta Honda3, Takashi Suemasu1 (1.Univ. of Tsukuba, 2.Tosoh Corporation, 3.Kansai Univ)

Keywords:

Thermoelectric material,Conduction type control,First-principle calculation

AgBa2Si3は組成比に応じた伝導型変調が報告されており、50 ℃においてp型伝導を示したバルク試料についてはゼーベック係数S = 398 μV K−1、無次元性能指数ZT = 0.52という、環境調和型材料として突出した性能が報告されている。しかし本材料の不純物添加や薄膜作製例はなかった。本研究では第一原理計算を用いて、ドーパントとして適した元素を新たに特定した。また、本材料初となる薄膜サンプルの作製を試みた。

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