[18a-A31-1~11] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

9:15 AM - 9:30 AM JST(12:15 AM - 12:30 AM UTC)

[18a-A31-2] Plasma Emission Analysis of Reactive Sputtering Processes in Iron Oxide Thin Film Growth

〇Rintaro Minami¹, Eiji Kita¹, Hideto Yanagihara¹ (1.Tsukuba Univ.)

Keywords:

reactive sputtering,plasma emission

反応性スパッタリング法は元のターゲットモードにより，同じ条件でも成膜速度が異なるため薄膜成長の再現性を損なうことが課題となっている。成膜時の基板上およびターゲット表面でどのような現象が起こっているか不明な点が多い。
そのため，本研究では成膜プロセス中に得られるプラズマ発光に注目した。成膜時のプラズマ発光スペクトルのデータに主成分分析を行い，得られた鉄酸化物の価数評価及び成膜速度の予測を行った。