[18a-A31-1~11] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

9:15 〜 9:30

[18a-A31-2] 反応性スパッタリングプロセス中に発生するプラズマ発光による 成長中の酸化鉄薄膜の価数及び成膜速度予測

〇南 麟太朗¹、喜多 英治¹、柳原 英人¹ (1.筑波大)

キーワード：

反応性スパッタリング、プラズマ発光

反応性スパッタリング法は元のターゲットモードにより，同じ条件でも成膜速度が異なるため薄膜成長の再現性を損なうことが課題となっている。成膜時の基板上およびターゲット表面でどのような現象が起こっているか不明な点が多い。
そのため，本研究では成膜プロセス中に得られるプラズマ発光に注目した。成膜時のプラズマ発光スペクトルのデータに主成分分析を行い，得られた鉄酸化物の価数評価及び成膜速度の予測を行った。