[18p-A23-1~17] Fundamentals and Latest Technology Trends of Atomic Layer Process (ALP)

2:45 PM - 3:00 PM JST(5:45 AM - 6:00 AM UTC)

[18p-A23-4] Observation of competitive adsorption of DMZ and TMA in sequential adsorption of room temperature atomic layer deposition

〇Haruto Suzuki¹, Ryo Miyazawa¹, Satoshi Suzaki¹, Masanori Miura¹, Fumihiko Hirose¹ (1.Yamagata Univ.)

Keywords:

atomic layer deposition,complex oxide films,sequential adsorption

本研究では酸化亜鉛の原料であるDMZと酸化アルミニウムの原料であるTMAを室温原子層堆積法を用いて連続吸着させた。反応速度定数を求めるために連続吸着反応を多重内部反射型赤外吸収分光法で観察した。また、原料ガス照射量を変更した様々な条件のサンプルのAl/Zn原子組成比をXPSを用いて測定したところ、TMAの照射量増加に伴い表面に存在するDMZ由来のZnの比率が減少していくことが分かった。これはTMAの表面エッチングを仮説している。学会では、これらの結果からDMZとTMAの連続吸着における表面反応について議論する。