[18p-A23-1~17] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の基礎と最新技術動向

14:45 〜 15:00

[18p-A23-4] 室温原子層堆積法を用いた連続吸着方式におけるDMZとTMAの競合吸着反応の観察

〇鈴木 晴登¹、宮澤 諒¹、洲崎 慧¹、三浦 正範¹、廣瀬 文彦¹ (1.山形大)

キーワード：

原子層堆積法、複合酸化膜、連続吸着

本研究では酸化亜鉛の原料であるDMZと酸化アルミニウムの原料であるTMAを室温原子層堆積法を用いて連続吸着させた。反応速度定数を求めるために連続吸着反応を多重内部反射型赤外吸収分光法で観察した。また、原料ガス照射量を変更した様々な条件のサンプルのAl/Zn原子組成比をXPSを用いて測定したところ、TMAの照射量増加に伴い表面に存在するDMZ由来のZnの比率が減少していくことが分かった。これはTMAの表面エッチングを仮説している。学会では、これらの結果からDMZとTMAの連続吸着における表面反応について議論する。