[18p-A23-1~17] Fundamentals and Latest Technology Trends of Atomic Layer Process (ALP)

3:15 PM - 3:30 PM JST(6:15 AM - 6:30 AM UTC)

[18p-A23-6] Estimation of Vapor Pressure of Metal Complex for ALD by COSMO-SAC method

〇Noboru Sato¹, Yuxuan Wu¹, Jun Yamaguchi¹, Atsuhiro Tsukune¹, Yukihiro Shimogaki¹ (1.The Univ. Tokyo)

Keywords:

atomic layer deposition,precursor,COSMO-SAC method

ALD（Atomic Layer Deposition）は、3次元構造に均一な膜を堆積できるため、半導体製造で注目されている。ALDでは有機金属錯体を用いるが、高濃度ガス供給には高蒸気圧の錯体が必要となる。そのため、効率的な新規錯体開発には蒸気圧予測手法が重要である。COSMO-SAC法はその一つだが、蒸気圧を過小評価する。本研究ではCOSMO-SAC法に3つの手順を追加し、予測精度を向上させた。新手法は50%から200%の精度で蒸気圧を再現し、錯体のALD適性判断に有用である。