[18p-A23-1~17] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の基礎と最新技術動向

15:15 〜 15:30

[18p-A23-6] COSMO-SAC法によるALD用金属錯体の蒸気圧推算

〇佐藤 登¹、呉 宇軒¹、山口 潤¹、筑根 敦弘¹、霜垣 幸浩¹ (1.東大院工)

キーワード：

原子層堆積法、原料、COSMO-SAC法

ALD（Atomic Layer Deposition）は、3次元構造に均一な膜を堆積できるため、半導体製造で注目されている。ALDでは有機金属錯体を用いるが、高濃度ガス供給には高蒸気圧の錯体が必要となる。そのため、効率的な新規錯体開発には蒸気圧予測手法が重要である。COSMO-SAC法はその一つだが、蒸気圧を過小評価する。本研究ではCOSMO-SAC法に3つの手順を追加し、予測精度を向上させた。新手法は50%から200%の精度で蒸気圧を再現し、錯体のALD適性判断に有用である。