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[18p-B1-14]Fabrication of patterned dielectric back contacts for InGaAs thermophotovoltaic cells

〇Masaki Date1,2, Ryuji Oshima2, Yasushi Shoji2, Hitoshi Sai2, Makoto Shimizu3, Takeyoshi Sugaya2, Shuhei Yagi1, Hiroyuki Yaguchi1 (1.Saitama Univ., 2.AIST, 3.Graduate School of Engineering, Tohoku Univ.)
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Keywords:

Solar cells,Thermophotovoltaics,Molecular beam epitaxy

TPVは熱輻射光を入力として太陽電池セルで発電する技術である。高効率化にはサブバンドギャップのフォトンをサーマルエミッタへ反射し、再利用することが重要である。本研究では裏面にSiO2を用いたパターン化誘電体裏面電極(PDBC)を形成した逆積みInGaAsセルを作製し、1700 nmから2300 nmまでの平均反射率を評価した。その結果、金属のみの場合は85.9%であったのに対し、PDBC直径4 µmでは95.4%に向上した。

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