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[18p-B3-12]Diffusion of oxygen in amorphous HfO2

〇(M2)Yuna Motozu1, Ryusuke Nakamura1, Takeyuki Suzuki2 (1.Univ. of Shiga Pref., 2.SANKEN Osaka Univ.)

Keywords:

HfO2,amorphous,diffusion

高周波スパッタリング法により基板上に一様なアモルファスHfO2(a-HfO2)薄膜を作製し,二次イオン質量分析法(SIMS)により質量数18の安定同位体酸素の長距離拡散プロファイルを測定して,酸素の拡散係数を決定した.300 °C ~ 500 °Cにおけるa-HfO2の酸素の拡散係数は,HfO2の安定相のひとつである単斜晶よりも4 ~ 5 桁小さい値となった.

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