講演情報
[18p-B3-12]アモルファスHfO2における酸素の拡散
〇(M2)本図 優奈1、仲村 龍介1、鈴木 健之2 (1.滋賀県大工、2.阪大産研)
キーワード：
HfO2、アモルファス、拡散
高周波スパッタリング法により基板上に一様なアモルファスHfO2（a-HfO2）薄膜を作製し，二次イオン質量分析法（SIMS）により質量数18の安定同位体酸素の長距離拡散プロファイルを測定して，酸素の拡散係数を決定した．300 °C ~ 500 °Cにおけるa-HfO2の酸素の拡散係数は，HfO2の安定相のひとつである単斜晶よりも4 ~ 5 桁小さい値となった．
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