[18p-C41-1~8] Interdisciplinary Expansion of Interfacial Nano-Electrochemistry -From Advanced Semiconductors to Biosciences-

4:45 PM - 5:00 PM JST(7:45 AM - 8:00 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[18p-C41-8] Relationship between Charge Characteristics of Flying Droplets and Surface Potential Characteristics of SiO₂ Wafers during Two-Fluid Spraying

〇(M1)Kousei Itou¹, Ittetsu Watanabe¹, Tatsuo Mori¹, Yusuke Ichino¹, Noriyuki Taoka¹, Yoshiyuki Seike¹ (1.Aichi Inst. Tech.)

Keywords:

cleaning,surface potential

半導体デバイスの製造において、パーティクル除去など二流体スプレーを用いた洗浄が行われている。二流体スプレーで純水をウェハに噴射した場合、ウェハ表面の電位は負極性に帯電することが報告されている。ウェハ帯電により発生する静電気障害が問題となっている。しかし、なぜ帯電が発生するかはわかっていない。そこで我々は二流体スプレー時の飛行液滴の電荷特性とSiO₂ウェハの表面電位の関係を明らかにするための実験を行った。