講演情報
[18p-C41-8]二流体スプレー時の飛行液滴の電荷特性とSiO2ウェハの表面電位の関係性
〇(M1)伊藤 康生1、渡辺 一哲1、森 竜雄1、一野 祐亮1、田岡 紀之1、清家 善之1 (1.愛知工大)
キーワード:
洗浄、表面電位
半導体デバイスの製造において、パーティクル除去など二流体スプレーを用いた洗浄が行われている。二流体スプレーで純水をウェハに噴射した場合、ウェハ表面の電位は負極性に帯電することが報告されている。ウェハ帯電により発生する静電気障害が問題となっている。しかし、なぜ帯電が発生するかはわかっていない。そこで我々は二流体スプレー時の飛行液滴の電荷特性とSiO2ウェハの表面電位の関係を明らかにするための実験を行った。
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