[19a-A36-1~7] 8.3 Plasma nanotechnology

9:15 AM - 9:30 AM JST(12:15 AM - 12:30 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[19a-A36-2] Contribution of deposition characteristics of carbon nanoparticles to stress reduction by inserting carbon nanoparticles into amorphous carbon films

〇(D)Shinjiro Ono¹, Manato Eri¹, Takamasa Okumura¹, Naoto Yamashita¹, Kunihiro Kamataki¹, Haruki Kiyama¹, Naho Itagaki¹, Kazunori Koga¹, Masaharu Shiratani¹ (1.Kyushu Univ.)

Keywords:

carbon nanoparticle,stress reduction,plasma CVD

水素化アモルファスカーボン（a-C:H）膜の膜応力低減には、カーボンナノ粒子（CNP）を用いたサンドイッチ構造が有効である。本研究では、Ar+CH₄プラズマCVD法を用い、CNPの被覆率（C_p）を増加させると、膜応力は1.59 GPaから1.02 GPaに低減した。またCNPが2層目のa-C:H膜成長に影響し、応力低減の効果は膜厚とCNPのサイズ、C_pの式で表されることを明らかにした。