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[19a-B5-3]Evaluation of Band Structure in Strained Single Crystalline Si1-xSnx (Ⅱ)

〇Hiroki Ishizaki1, Ryo Yokogawa1,2, Takuya Minowa1, Masashi Kurosawa3, Atsushi Ogura1,2 (1.Meiji Univ., 2.MREL, 3.Grad. Sch. of Eng., Nagoya Univ.)
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Keywords:

silicon-tin

SiSnはSn添加を増加させることにより直接遷移型半導体に変化するため、次世代光デバイスへの応用が期待されている。しかし、実測定によるSiSnのバンド構造は未だ明らかになっていない。よって、本研究では、分光エリプソメトリー及びPL法用いて単結晶歪SiSnのバンドギャップエネルギーを測定した。測定結果から単純に外挿して直接遷移型を得るために必要なSn組成を導出すると約50%であると考えられる。

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