[19p-B3-1~22] 6.2 Carbon-based thin films

3:30 PM - 3:45 PM JST(6:30 AM - 6:45 AM UTC)

[19p-B3-10] Growth of ultra-heavily boron-doped diamond by hot-filament CVD

〇Ryota Ohtani¹, Taisuke Kageura¹, Shinya Ohmagari¹ (1.AIST)

Keywords:

diamond,boron doping,hot-filament CVD

ダイヤモンドデバイスの作製プロセスにおいて、低抵抗コンタクト層の役割を担う高濃度ボロンドープダイヤモンド(BDD)膜の形成は、重要な要素技術の一つである。本研究ではダイヤモンド(001)表面上のBDDホモエピタキシャル成長において、より一層の低抵抗化をねらった超高濃度(>10²² cm^-3)ドーピングを、熱フィラメントCVD法により達成したので報告する。