[20a-A22-1~10] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

10:30 AM - 10:45 AM JST(1:30 AM - 1:45 AM UTC)

[20a-A22-6] Property changes of ZnO thin films grown by mist CVD with heat treatment

〇Ryosuke Ohashi¹, Tatsuya Yasuoka¹, Tatsuki Okada¹, Toshiyuki Kawaharamura^1,2 (1.KUT, 2.Research Institute)

Keywords:

MistCVD,ZnO

当研究室では、溶液を用いて機能薄膜を形成することが可能なミストCVD法により、高品質な機能膜を形成するための技術開発を進めている。特に、酸化亜鉛(ZnO)薄膜においては、当研究室の先行研究でc軸配向しやすい成膜条件を既に把握している。今回その再現実験を行った。また、特性改善を目的として、この条件で作製した酸化亜鉛薄膜に熱処理を行い、特性変化について調査を行った。