[20a-A22-1~10] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

10:30 〜 10:45

[20a-A22-6] ミストCVD法により作製した酸化亜鉛薄膜の熱処理による特性変化

〇大橋 亮介¹、安岡 龍哉¹、岡田 達樹¹、川原村 敏幸^1,2 (1.高知工科大シス工、2.総研)

キーワード：

ミストCVD、酸化亜鉛

当研究室では、溶液を用いて機能薄膜を形成することが可能なミストCVD法により、高品質な機能膜を形成するための技術開発を進めている。特に、酸化亜鉛(ZnO)薄膜においては、当研究室の先行研究でc軸配向しやすい成膜条件を既に把握している。今回その再現実験を行った。また、特性改善を目的として、この条件で作製した酸化亜鉛薄膜に熱処理を行い、特性変化について調査を行った。