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[20p-C42-1]AlN template on sapphire substrate (1) -Growth mode dependence-

〇Koji Okuno1,2, Hibiki Muto2, Sena Miura2, Masaki Ohya1, Yoshiki Saito1,2, Hisanori Ishiguro2, Satoshi Kamiyama2, Motoaki Iwaya2, Tetsuya Takeuchi2 (1.Toyoda Gosei, 2.Meijo Univ.)

Keywords:

UVC,AlN,LED

UVC-LEDの高効率化の為には、サファイア基板上に低転位密度かつクラックを持たないAlNテンプレート層を成長させる必要である。高品質な AlN層を得る為には、核生成層、3次元成長層、2次元平坦化層の順にAlN層の成長モードを制御することが重要である。本研究では1200℃以下の比較的低い成長温度で、各層の成長モードを制御することで、ピットおよびクラックを持たない平坦な表面のAlN層が得られた。

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