Presentation Information
[22a-P01-11]Critical current properties in Fe(Te,Se) flakes fabricated by using tape-peeling and maskless lithography
YUTA KOSAKA1, 〇(M1)SHODAI SHIMANO1, SHUNPEI HORIKAWA1, YUE SUN2, HARUHISA KITANO1 (1.Aoyama Gakuin Univ., 2.Southeast Univ.)
Keywords:
Iron chalcogenide,tape-peeling,Critical current
我々は、鉄系超伝導体Fe(Te,Se)単結晶からテープ剥離法を用いて、膜厚が数百nmの微小フレーク試料を作製し、マスクレス露光法を用いた電極作製により、ゼロ抵抗状態の観測と電流電圧測定に成功した。本講演では、膜厚200 nm以下を得るための素子作製手法やFIB加工による微小ブリッジ素子の電流電圧特性、及び面内対破壊電流密度について議論する。