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[22p-12K-6]Magnetoresistance of Mn3(Ge,Mn)N epitaxial thin film grown on GaN

〇Takahiko Kawaguchi1, Satoki Sugiura1, Yuya Sugahara1, Naonori Sakamoto1, Naoki Wakiya1 (1.Shizuoka Univ.)

Keywords:

Mangetoresistance,nitride,epitaxial thin film

我々はPLD法を用いてMn3(Ge,Mn)Nの薄膜作製に取り組み、これまでにMgO(001)基板上やGaN(0001)テンプレート上へのエピタキシャル成長に成功している。今回の研究においてGaN上のMn3(Ge,Mn)N薄膜が比較的大きな磁気抵抗効果を示すことを予期せず発見した。これはMgO(001)基板上のMn3(Ge,Mn)N薄膜では観測されずGaN上に製膜した効果であると考えられる。そこで本研究ではPLD法を用いて作製したMn3(Ge,Mn)N薄膜の磁気抵抗効果について調査することを目的とした。