[23a-12E-1~13] 1.6 Ultrasonics

10:00 AM - 10:15 AM JST(1:00 AM - 1:15 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[23a-12E-5] Application of (K,Na)NbO₃ Films Deposited by RF Sputtering to Film Bulk Acoustic Resonators

〇Yuta Nakayama¹, Masashi Suzuki¹, Shoji Kakio¹ (1.Univ. of Yamanashi)

Keywords:

Potassium Sodium Niobate,Bulk Acoustic Wave

弾性波フィルタには，大きな圧電性と高い位相速度を有する圧電材料が要求されている．高周波(RF)スパッタリングにより成膜された(K,Na)NbO₃(KNN)膜は，鉛系圧電膜に匹敵する優れた圧電性を示すことから，その応用が研究されている．本報では，RFスパッタリングにより成膜したKNN膜を用いて圧電薄膜共振子(FBAR)を作製し，アドミタンス特性を測定した．その結果，1 GHz付近と4 GHz付近に圧電応答を観測し，KNN膜のFBARへの適用可能性を明らかにした．