[23a-31A-1~9] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

9:45 AM - 10:00 AM JST(12:45 AM - 1:00 AM UTC)

[23a-31A-4] Fabrication of Conductive TiO₂ Thin Films by Mist Chemical Vapor Deposition and Its Application for Surface Coating of Fuel Cell Separators

〇Tomohito Sudare¹, Han Xu², Reiichi Ueda¹, Yumie Miura¹, Ryota Shimizu¹, Ryo Nakayama¹, Kentaro Kaneko³, Naoomi Yamada⁴, Taro Hitosugi¹ (1.Univ. Tokyo, 2.Tokyo Tech., 3.Ritsumeikan Univ., 4.Chubu Univ.)

Keywords:

Conductive TiO2,Contact resistance,fuel cell

アナターゼ型Ti_1−xNb_xO₂ (TNO)は、低い電気抵抗率(300 Kで2.3×10⁻⁴ Ωcm)と高い化学的安定性をもつ。これらの特性は、固体高分子膜型燃料電池(PEMFC)用のステンレス鋼セパレータの表面コーティング材料に求められる性能を満足する。そこで、本研究では、ミスト化学蒸着(ミストCVD)法を用いてTNO薄膜をガラス基板上に作製し、高い導電性を発現する成膜条件を検討した。特に、成膜温度とポストデポジションアニール温度に着目した。その後、ステンレス鋼基板へTNOを成膜し、PEMFCセパレータの表面処理材料としての応用可能性を検討した。