[23p-12M-1~13] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

1:45 PM - 2:00 PM JST(4:45 AM - 5:00 AM UTC)

[23p-12M-2] Thin Film Fabrication of Cubic Octamer of Tetramethyl Orthosilicate

〇Kotaro Makino¹, Misako Morota¹, Shinji Tanaka¹, Noriyuki Uchida¹, Masayasu Igarashi¹ (1.AIST)

Keywords:

thin film deposition,low-k dielectric,tetramethyl orthosilicate

新しい機能を持った半導体デバイスに応用することを目標として、オルトケイ酸テトラメチルのカゴ型8量体[Si8O12][OMe]8 (Q8Me8)を基板上に薄膜を形成する技術を開発した。