[23p-12M-1~13] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

2:00 PM - 2:15 PM JST(5:00 AM - 5:15 AM UTC)

[23p-12M-3] Initial silanization and TEOS thermal forced decomposition for the formation of thick silica coating on PbS quantum dots

〇Hiroto Shirozume¹, Issei Pribyl², Kyosuke Uchiyama², Kohki Mukai^1,2 (1.College of Engineering Science, Yokohama National Univ., 2.Graduate School of Engineering Science, Yokohama National Univ.)

Keywords:

quantum dots

量子ドット(QD)に厚膜シリカコーティングを形成するために、逆ミセル法で厚くシリカシェルを形成する前処理として、初期シラン化や熱強制分解法でPbS量子ドットを薄くシリカコートする方法の効果を検討した。シリカコートの被服完全性や膜厚均一性、発光効率の減少幅、時間による回復などの条件依存性を確認した。