講演情報
[23p-12M-3]PbS量子ドットの厚膜シリカコーティング形成のための初期シラン化とTEOS熱強制分解法の検討
〇城詰 大翔1、プリブル 一生2、内山 恭介2、向井 剛輝1,2 (1.横浜国大理工、2.横浜国大院理工)
キーワード：
量子ドット
量子ドット(QD)に厚膜シリカコーティングを形成するために、逆ミセル法で厚くシリカシェルを形成する前処理として、初期シラン化や熱強制分解法でPbS量子ドットを薄くシリカコートする方法の効果を検討した。シリカコートの被服完全性や膜厚均一性、発光効率の減少幅、時間による回復などの条件依存性を確認した。