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[23p-22A-8]Consideration on Asymmetric Broadening of SiGe Raman Spectrum

〇Ryo Yokogawa1,2, Sho Sugawa1, Yuiha Maeda1, Yasutomo Arai3, Ichiro Yonenaga4, Atsushi Ogura1,2 (1.Meiji Univ., 2.MREL, 3.JAXA, 4.Tohoku Univ.)

Keywords:

SiGe,Raman spectroscopy,Phonon

ラマン散乱は結晶中の歪、組成、温度に敏感であり、薄膜やデバイス評価に幅広く用いられている。SiGeラマンスペクトルは、組成によってラマンシフトが変化し、同時に低エネルギー側に非対称ブロードニングが生じるが、その起源に関する詳細な解析は行われていない。本講演ではX線非弾性散乱法で得られたフォノン分散と空間相関モデルを組み合わせることで、SiGeラマンスペクトルを詳細に解析したので報告する。