Presentation Information
[23p-P05-34]XRR measurement of Si surface amorphized by ion beam
〇Mina Sato1, Mie Tohnishi1, Akihiro Matsutani1 (1.Tokyo Tech.)
Keywords:
XRR,KOH etching,ECR ion shower
ECRのプラズマ源からの低エネルギーAr＋ビーム照射によるアモルファス化マスクを作製し，KOHエッチング用のマスクとして機能することをこれまで報告してきた．しかし，その膜厚は数nmと実測することが難しくシミュレーションによるイオンの飛程により見積もっていた．そこで本報告では膜厚を実測するために，X線反射率(XRR: X-ray reflectivity)法を利用した結果を報告する．