講演情報
[23p-P05-34]イオンビーム照射によりアモルファス化したSi表面のXRR測定
〇佐藤 美那1、遠西 美重1、松谷 晃宏1 (1.東工大OFC)
キーワード：
XRR,KOHエッチング,ECRイオンシャワー
ECRのプラズマ源からの低エネルギーAr＋ビーム照射によるアモルファス化マスクを作製し，KOHエッチング用のマスクとして機能することをこれまで報告してきた．しかし，その膜厚は数nmと実測することが難しくシミュレーションによるイオンの飛程により見積もっていた．そこで本報告では膜厚を実測するために，X線反射率(XRR: X-ray reflectivity)法を利用した結果を報告する．