Presentation Information
[23p-P05-35]Microfabrication and fluorescence imaging of sub-micron diameter SU-8 pillar using back-side exposure
〇Miho Fujimoto1, Akihiro Matsutani1 (1.Tokyo Tech.)
Keywords:
photolithography,SU-8,back-side exposure
高アスペクト比の構造の形成に用いられるエポキシ系のフォトレジストSU-8は電子線にも感度があり、電子線レジストへの応用が試みられている。電子線リソグラフィにより、高さ1 µm以下で直径500 nmのSU-8の円柱形状を作製できるが、高さ2 µm以上では電子の前方散乱が大きく円錐形状になる。今回、我々はコリメート光を用いた裏面露光によりサブミクロンの直径のSU-8の円柱構造を作製したので報告する。