講演情報
[23p-P05-35]裏面露光によるサブミクロン直径のSU-8円柱構造の作製と蛍光観察
〇藤本 美穂1、松谷 晃宏1 (1.東工大OFC)
キーワード：
フォトリソグラフィ,SU-8,裏面露光
高アスペクト比の構造の形成に用いられるエポキシ系のフォトレジストSU-8は電子線にも感度があり、電子線レジストへの応用が試みられている。電子線リソグラフィにより、高さ1 µm以下で直径500 nmのSU-8の円柱形状を作製できるが、高さ2 µm以上では電子の前方散乱が大きく円錐形状になる。今回、我々はコリメート光を用いた裏面露光によりサブミクロンの直径のSU-8の円柱構造を作製したので報告する。