[24p-21B-1~12] 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

2:15 PM - 2:30 PM JST(5:15 AM - 5:30 AM UTC)

[24p-21B-5] Reduction of Thermal Conductivity in Silicon Thin Film by SiGe Super-thin Film Interface and Phononic Crystal Nanostructures

〇Ryoto Yanagisawa¹, Sota Koike¹, Takahiro Inoue², Kentaro Sawano², Masahiro Nomura¹ (1.IIS Univ. of Tokyo, 2.Tokyo City Univ.)

Keywords:

silicon,phonon thermal transport,thermoelectrics

Si薄膜にSiGe超薄膜を挿入した超格子薄膜を作製し、サーモリフレクタンス法を用いて薄膜の面内方向熱伝導率を測定した。SiGeの超薄膜界面が挿入されたことで、単結晶Si薄膜と比較して低い熱伝導率が測定され、さらにフォノニック結晶ナノ構造を作製することで大きな熱伝導率低減を観測した。