[24p-21B-1~12] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

14:15 〜 14:30

[24p-21B-5] SiGe超薄膜界面とフォノニック結晶ナノ構造を用いたシリコン薄膜の低熱伝導率化

〇柳澤 亮人¹、小池 壮太¹、井上 貴裕²、澤野 憲太郎²、野村 政宏¹ (1.東大生研、2.東京都市大)

キーワード：

シリコン,フォノン熱輸送,熱電変換

Si薄膜にSiGe超薄膜を挿入した超格子薄膜を作製し、サーモリフレクタンス法を用いて薄膜の面内方向熱伝導率を測定した。SiGeの超薄膜界面が挿入されたことで、単結晶Si薄膜と比較して低い熱伝導率が測定され、さらにフォノニック結晶ナノ構造を作製することで大きな熱伝導率低減を観測した。