Presentation Information
[24p-P03-7]Nitridation processes of Ti films for non-evaporable getter coating
〇(M1C)Takuya Ohba1, Takeo Nakano1, Md. Suruz Mian1, Yuka Fujii1, Kazuhiko Mase2,3, Takashi Kikuchi2 (1.Seikei Univ., 2.KEK, 3.SOUKENDAI)
Keywords:
Thin Film,Surface,nonevaporable getter coating
真空中で加熱し表面を活性化させると高い反応性を示し、H2, COなどの残留ガスを排気する性質を持つ金属材料を真空容器内に成膜するNEG コーティング (nonevaporable getter coating) 技術が注目されている。我々は、超高真空下でスパッタ成膜したTi膜に高純度N2を曝露した表面がNEGコーティングとして利用できないか検討している。今回は、表面窒化過程の成膜手法による違いを調べるため、高純度N2曝露時の圧力推移や、XPS, SEM, XRDによる膜の評価を行った。