[24p-P03-1~9] 6.5 表面物理・真空

[24p-P03-7] 非蒸発型ゲッタコーティングに用いるTi膜の表面窒化過程

〇(M1C)大庭 託優¹、中野 武雄¹、ミヤ モハメッド　シュルズ¹、藤井 優花¹、間瀬 一彦^2,3、菊地 貴司² (1.成蹊大、2.KEK、3.総研大)

キーワード：

薄膜,表面,NEGコーティング

真空中で加熱し表面を活性化させると高い反応性を示し、H2, COなどの残留ガスを排気する性質を持つ金属材料を真空容器内に成膜するNEG コーティング (nonevaporable getter coating) 技術が注目されている。我々は、超高真空下でスパッタ成膜したTi膜に高純度N2を曝露した表面がNEGコーティングとして利用できないか検討している。今回は、表面窒化過程の成膜手法による違いを調べるため、高純度N2曝露時の圧力推移や、XPS, SEM, XRDによる膜の評価を行った。