Presentation Information
[10a-N201-1]Epitaxial growth of thick CaSi2 film/Si and its thermoelectric properties
〇(D)Takashi Yoshizaki1, Mikio Kojima1, Tsukasa Terada1, Takafumi Ishibe1,2, Yoshiaki Nakamura1,2 (1.The Univ. of Osaka, 2.OTRI Osaka Univ.)
Keywords:
thermoelectric conversion
IoTセンサ用電源としてSi基板上薄膜熱電材料が注目されている。我々は、シリセン内包層状物質CaSi2において、シリセンのバックリング構造変調由来の高出力因子を観測した。しかし、膜成長中のCa脱離によりCaSi2膜の膜厚増加に限界があり、応用に資する出力は得られていない。本研究では、CaSi2膜の厚膜化を可能にする成長法を開発し、得られたCaSi2厚膜の熱電特性を明らかにすることを目的とする。