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[8p-N204-9]Observation and evaluation of the plasmonic diffraction confinement within the pixel using trench formation

〇Yusuke Yoshizawa1, Soh Uenoyama1, Kazunori Tanaka1, Hiroyasu Fujiwara1 (1.Hamamatsu Photonics K.K.)

Keywords:

Plasmonics,Nano diffraction,NIR photodetector

近年、CMOSイメージセンサの高集積化や近赤外イメージングに対する需要の高まりに伴い、近赤外帯域における高感度化が期待されている。本報告では、プラズモニック回折構造を搭載したシリコンベースの光検出器において、画素間のトレンチによる光閉じ込め効果が近赤外帯域での感度向上に寄与することを示す。