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[8p-P05-7]Investigation of raw material solution concentration in the preparation of Cu2Sn1-xGexS3 thin films by three-source fine channel mist CVD method

〇Kazuki Nakashima1, Tomoki Matushita1, Ayaka Kanai1, Kunihiko Tanaka1 (1.Nagaoka Univ. Tech.)

Keywords:

solar cell,Mist CVD Method,Cu2Sn1-xGexS3(CTGS)

Cu2Sn1-xGexS3(CTGS)はCu2SnS3(CTS)とCu2GeS3(CGS)の混晶半導体で,104 cm-1以上の光吸収係数を有し,組成比xを変えることで単接合太陽電池の理想バンドギャップである1.4 eVに近付けられる。本研究室では,Cu,Snを含む溶液とSを含む溶液を作り,ファインチャネルミストCVD法によりソーダライムガラス(SLG)基板上へのCTS薄膜堆積を行ってきた。本研究ではCTS薄膜堆積機構にGeを含む溶液を追加した三源系ファインチャネルミストCVD法により,SLG基板上へのCTGS薄膜堆積を試みた。