[8p-P11-1~13] 23.1 Joint Session N "Informatics"

[8p-P11-9] Process Informatics of Ion Beam Irradiated Semiconductor Nanostructures Visualized by Persistent Homology

〇Kazuhiro Hashiride¹, Rei Miyata¹, Noriko Nitta¹, Naoto Oishi², Ippei Obayashi³ (1.Kochi Univ. Tech., 2.NIT, Kochi College, 3.Okayama Univ.)

Keywords:

semiconductor,persistent homology,ion beam

近年、材料開発における製造プロセス最適化を行うために、データ解析と情報科学を駆使するプロセスインフォマティクスが急速に発展している。本研究では、半導体材料にイオンビームを照射した際に形成される微細構造をパーシステントホモロジーを用いて解析を行い、照射条件との関連を明らかにした。