[9a-P01-1~17] 6.2 Carbon-based thin films

[9a-P01-2] Secondary Electron Emission Study of Amorphous Carbon Nitride Thin Films Irradiated with 1 keV Electron Beams

〇Masami Aono¹, Yoshinori Hashimoto², Akio Higashi³, Yohei Sato⁴, Masami Terauchi⁴ (1.Kagoshima Univ., 2.KEK, 3.HIBMC, 4.IMRAM Tohoku Univ.)

Keywords:

carbon nitride,thin films,sputtering

圧力勾配式反応性高周波（RF）マグネトロンスパッタ法で作製した窒素含有量の異なるアモルファス窒化炭素（a-CN_x）薄膜に1 keVの低エネルギー電子線を照射した際の二次電子収率（SEY）について調べた。