Presentation Information
[9a-P01-5]Numerical Analysis of Fundamental Properties of HiPIMS Plasma
for Diamond-Like Carbon Films Deposition
〇Motoki Abe1, Takayuki Ohta2, Akinori Oda1 (1.Chiba Tech., 2.Meijo Univ.)
Keywords:
HiPIMS,sputtering,simulation
大電力パルスマグネトロンスパッタリング(High Power Impulse Magnetron Sputtering; HiPIMS)は, 高硬度DLCの成膜に有効な技術とされている. 一方で, 炭素粒子のイオン化率と成膜条件との相関は未解明である. そこで本報告では, パルス長やピーク電力密度が炭素粒子のイオン化率に及ぼす影響を解析したため, その結果を報告する.